(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210721222.7 (22)申请日 2022.06.22 (71)申请人 华中科技大 学 地址 430000 湖北省武汉市洪山区珞喻路 1037号 (72)发明人 周向东　宋宝　张翔　唐小琦　 刘永兴　李君　卢慧锋　王小柏　 高天赐　 (74)专利代理 机构 武汉蓝宝石专利代理事务所 (特殊普通 合伙) 42242 专利代理师 万畅 (51)Int.Cl. G06T 7/80(2017.01) G06T 7/73(2017.01) G06T 3/60(2006.01) (54)发明名称 一种基于反向校正标定的晶片位姿回正方 法 (57)摘要 本发明涉及一种基于反向校正标定的晶片 位姿回正方法， 包括： 初步标定得到机台旋转初 始中心在机台坐标系中的坐标， 得到机台旋转初 始中心和图像坐标系中心在x轴和y轴的初始偏 差距离initoffx和initoffy； 对于已知偏角和偏 差距离的偏斜晶片， 基于初 始偏差距 离initoffx 和initoffy或校正后的初始偏差coroffx和 coroffy得到偏斜晶片回正到图像坐标系中心的 机台旋转角度和平移距离； 基于机台旋转角度和 平移距离对偏斜晶片进行旋转和平移的回正； 在 普通标定方法的基础上增加了二次反向迭代校 正的步骤， 可以根据机台上的晶片在图像坐标系 中离视野十字架中心的初始偏斜参数， 精确计算 出在机台坐标系中机台应该旋转和平移多少角 度和距离， 从而可以使偏斜晶片回正到视野十字 架中心。 权利要求书2页 说明书9页 附图5页 CN 115100291 A 2022.09.23 CN 115100291 A 1.一种基于反向校正标定的晶片位姿回正方法， 其特征在于， 所述晶片位姿回正方法 包括： 步骤1， 初步标定得到机台旋转初始中心在机台坐标系中的坐标， 得到所述机台旋转初 始中心和图像坐标系中心在x轴和y轴的初始偏差距离initoffx和initoffy， 并对所述 initoffx和initoffy分别进行反向校正得到初始偏差 coroffx和corof fy； 步骤2， 对于已知偏角和偏差距离的偏斜晶片， 基于所述初始偏差coroffx和coroffy得 到所述偏斜晶片回正到所述图像坐标系中心的机台旋转角度和平 移距离； 步骤3， 基于所述机台旋转角度和平 移距离对所述偏斜晶片进行旋转和平 移的回正。 2.根据权利要求1所述的 晶片位姿回正方法， 其特 征在于， 所述 步骤1中包括： 步骤101， 在图像坐标系中选择点C1， 旋转 转台得到点C1经 过的点C2和点C 3； 基于圆弧上点C1、 点C2和点C3的坐标求圆心坐标， 该圆心坐标为所述机台旋转初始中 心在机台坐标系中的坐标(x， y)； 机台和晶圆台的x移动轴和y移动轴都位于零点 时， 所述机台旋转中心和所述图像坐标 系中心在x轴的初始偏差距离i nitoffx＝x， 在y轴的初始偏差距离i nitoffy＝y。 步骤102， 旋转转台， 根据旋转前所述图像坐标系中心在所述机台坐标系中的位置O1 (XO1， YO1)、 旋转后 所述图像坐标系中心在所述机台坐标系中的位置B(XB， YB)以及所述偏斜 晶片的偏角 α和偏 差距离(offAx， offAy)， 计算机台旋转中心在机台坐标系中的实际位置O2 (XO2， YO2)， 即为校正后的机台旋转中心和图像坐标系中心的所述初始偏差coroffx、 coroffy。 3.根据权利要求2所述的晶片位姿回正方法， 其特征在于， 所述步骤101中， 所述机台旋 转初始中心在机台坐标系中的坐标(x， y)的计算公式为： 其中， (x1,y1)、 (x2,y2)和(x3,y3)分别为点C1、 点C2和点C 3的坐标。 4.根据权利要求2所述的晶片位姿回正方法， 其特征在于， 所述步骤102中， 所述机台旋 转中心O2在机台坐标系中的坐标(XO2， YO2)的计算公式如下： 其中， (XA， YA)为旋转前所述偏斜晶片在 所述机台坐标系中的位置A的坐标， (XA， YA)＝ (XO1+offAx， YO1+of fAy)； (XC， YC)为旋转后所述偏斜晶片在所述机台坐标系中的实际位置C 的坐标， (XC， YC)＝ (XB+offCx， YB+of fCy)； (offCx， offCy)为所述偏斜晶片回正后的实际偏差距离 。权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 115100291 A 25.根据权利要求1所述的 晶片位姿回正方法， 其特 征在于， 所述 步骤2包括： 步骤201， 根据旋转后图像坐标系中心在机台坐标系的位置(posx， posy)以及 所述偏斜 晶片的偏角 α和偏差距离(offAx， offAy)， 计算所述偏斜晶片在机台坐标系中的坐标(x ｀， y ｀)和偏角 α ｀； 步骤202， 根据在机台坐标系中所述实际位置O2(XO2， YO2)以及所述偏斜晶片的坐标(x ｀， y ｀)和偏角 α ｀， 计算得到所述偏斜晶片在机台坐标系中的坐标(x旋， y旋)， 根据坐标(x旋， y旋)计 算所述偏斜晶片进行回正的旋转公式， 最后计算旋转后的晶片在机台坐标系中的坐标(x， y)。 6.根据权利要求5所述的晶片位姿回正方法， 其特征在于， 所述步骤201中， 所述偏斜晶 片在机台坐标系中的坐标(x ｀， y ｀)和偏角 α ｀的计算公式为： x`＝sx*of fAx+posx； y`＝sy*of fAy+posy； 其中， sx和sy分别为机台坐标系和图像坐标系在x和y方向的比例系数。 7.根据权利要求5所述的晶片位姿回正方法， 其特征在于， 所述步骤202中， 所述偏斜晶 片在机台坐标系中的坐标(x旋， y旋)的计算公式为： 所述旋转公式为： 旋转后的 晶片在机台坐标系中的坐标(x， y)计算公式为： x＝x旋`+coroffx y＝y旋`+coroffy。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 115100291 A 3